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图案化流动槽技术

测序能力的突破性提升

我们的创新性图案化流动槽技术为多种测序应用提供了优秀的通量水平。图案化流动槽利用独特的纳米孔进行簇生成,让流动槽表面区域得到更有效的利用。这一先进的流动槽设计有利于增加数据产出、降低成本、缩短运行时间。

查看图案化流动槽技术如何工作
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该3D视频展示了我们的创新性图案化流动槽如何与SBS技术一起工作。

独特的有序纳米孔设计

图案化流动槽包含了在流动槽两个表面固定位置上的数十亿个纳米孔(图1)。结构化组织提供了测序簇的均匀分布,相比非图案化簇生成具有显著优势。

  • 簇只能在纳米孔中形成,因此流动槽更不容易超载,能够接受更大范围的文库密度。
  • 精确的纳米孔定位无需再对簇位点作图,为每次测序运行节约了数小时的时间。
  • 更高的簇密度使得每个流动槽的数据更有用,降低了测序运行每Gb的成本。
独特的有序纳米孔设计
深入了解这项技术

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深入了解创新性图案化流动槽技术及显著增加数据通量和运行速度的方法。

阅读技术说明

利用半导体制造技术生产图案化流动槽。图案化纳米孔从玻璃基片开始蚀刻到表面,实现优化的簇分布。每个纳米孔包含DNA探针,用于在簇生成过程中采集制备DNA链进行扩增。纳米孔之间的区域没有DNA探针。

这一流程确保DNA簇只在纳米孔中形成,相邻簇之间的分布更为均匀,实现了成像时簇的精确分辨率。最大程度利用流动槽表面,使生成簇的总量增多。

我们的专利排除扩增成簇方法进一步提高了数据产出。排除扩增在簇生成过程中同时实现了注入(DNA链在纳米孔中着位)和扩增,这降低了多个文库片段在单个簇中扩增的概率。这个方法让单个DNA模板产生的DNA簇所占据的纳米孔数量最大,增加了每次运行得到的有效数据量。

图案化流动槽技术最先应用于HiSeq X Ten System,可经济有效地分析数据密集型应用,包含价值1000美元的人类基因组。HiSeq 3000/HiSeq 4000 System是将图案化流动槽用于多种基因组应用的首批Illumina测序仪。

NovaSeq 6000系统将最新的高性能成像与Illumina新一代图案化流动槽技术结合在一起。经过升级的NovaSeq流动槽进一步缩小了纳米孔之间的间隔,大大提高了簇密度和数据产出。

流动槽上预设置的簇分布

利用半导体制造技术生产图案化流动槽。图案化纳米孔从玻璃基片开始蚀刻到表面,实现优化的簇分布。每个纳米孔包含DNA探针,用于在簇生成过程中采集制备DNA链进行扩增。纳米孔之间的区域没有DNA探针。

这一流程确保DNA簇只在纳米孔中形成,相邻簇之间的分布更为均匀,实现了成像时簇的精确分辨率。最大程度利用流动槽表面,使生成簇的总量增多。

排除扩增测序化学

我们的专利排除扩增成簇方法进一步提高了数据产出。排除扩增在簇生成过程中同时实现了注入(DNA链在纳米孔中着位)和扩增,这降低了多个文库片段在单个簇中扩增的概率。这个方法让单个DNA模板产生的DNA簇所占据的纳米孔数量最大,增加了每次运行得到的有效数据量。

图案化流动槽技术为特色的先进系统

图案化流动槽技术最先应用于 HiSeq X Ten系统,可经济有效地分析数据密集型应用,包含价值1000美元的人类基因组。 HiSeq 3000/HiSeq 4000系统 是将图案化流动槽用于多种基因组应用的首批Illumina测序仪。

 NovaSeq 6000系统 将最新的高性能成像与Illumina新一代图案化流动槽技术结合在一起。经过升级的NovaSeq流动槽进一步缩小了纳米孔之间的间隔,大大提高了簇密度和数据产出。